[update] TECH_08 「対応不要」を 2 タイプに細分化 — §許容している構造的差異 セクション新規追加．「対応不要」の理由を 2 種類に分類: タイプ I (本質構造同一・Mitsuba に対応概念なし) = AWB/NR/EDGE/LSC/量子化 等．タイプ II (構造的差異あり・白板で許容) = AF/絞り口径食/ピクセル積分/センサノイズ/QE 波長依存/シャッター方式/温度依存．特に AF (CONTROL_AF_MODE=OFF 固定焦点) を §II-1 焦点モデル として独立詳述: 実機 perspective + 固定焦点で被写界深度 (DoF) と焦点ボケが存在する vs シミュ orthographic は全画素平行光線で焦点・DoF 概念なし (常に完璧合焦相当) という構造的な違いを明示．白板撮影では DoF 内固定 + 一様パターンで許容できるが「ゼロ影響」ではなく舌模型評価時や残差精緻化フェーズで再評価対象．他のタイプ II 項目 (II-2 絞り口径食 = lscMap で補正済 / II-3 ピクセル積分 = spp=1024 で緩和 / II-4 センサノイズ = 白板高輝度で相対影響小 / II-5 QE 波長依存・シャッター・温度・個体差) も白板許容理由を明示．対応マッピング表の AF 行を「対応不要・許容 (§許容している構造的差異 参照)」と再分類．サマリ表をタイプ I/II 区分で更新．Step 8-13 残差 2.63× の主因はタイプ II ではなくシミュ物理モデル誤差と推定する従来結論は維持．タイプ II 寄与は小さいが完全排除不能で，Step 8-14 以降の物理モデル精緻化と並行してタイプ II 独立評価の余地ありと記述．CLAUDE.md 進捗欄にタイプ I/II 分類と AF の構造的差異を追記